Магнитно-Абразивная Обработка
Эффективный, экологичный метод супертонкой обработки поверхностей

Применение Магнитно-Абразивной Обработки

Полирование плоских деталей

Полирование пластины монокристалла кремния

Нанорельеф пластины Si-Wafer после магнитно-абразивного полирования

Ra = 0.72 nm, TTV = 2.9 µm

Ra ñ values (nm)

Угол/Радиус 0 mm 37.5 mm 75 mm
00.951.281.18
450.651.57
900.641.37
1350.511.51
1800.661.28
2251.231.44
2701.411.36
3151.051.21

Ra = 0.51 – 1.57 nm

Полирование кристаллов лазерных устройств (CaF2 и др.)

Ra = 1.537 nm

Супертонкое полирование

Установка 3905

Установка А09

Установка А14

Установка А17

Оптическое стекло

Интерферограммы поверхности оптического стекла до и после магнитно-абразивного полирования (MAП)

До МАП: PV = 158 нм, Rа = 20 нм

После МАП: PV = 30 нм, Rа = 1.4 нм

Сферические и асферические поверхности

Программно управляемые технологии магнитно-абразивного полирования (МАП) плоских, сферических и асферических поверхностей

Установка А17

Технические характеристики установки А17

диаметр полируемых деталей10 мм
габаритные размеры установки (L x B x H)900 мм * 500 мм * 500 мм
параметр нанорельефа полированной поверхностиRa < 0.2 нм
масса установки80 кг
потребляемая мощность1.5 кВт

До и после МАП: ISO 25178

До МАППосле МАП
Sa0.27 nm0.14 nm
Sq0.369 nm0.189 nm
Sp4.58 nm0.735 nm
Sv3.66 nm0.735 nm

Возможности Магнитно-Абразивной Обработки

Установка MRF Q22-XE

Установка А17

Установка А14

До и после МАП: ISO 25178

До МАППосле МАП
Sa0.27 nm0.14 nm
Sq0.369 nm0.189 nm
Sp4.58 nm0.735 nm
Sv3.66 nm0.735 nm
Sz8.24 nm1.87 nm

Полирование керамики (КНБ)

Платины для резцов и фрез

Vandurit GmbH, Germany

До МАО: r = 7.86 µм

После МАО: r = 45.24 µм

МатериалыМикротвердость, ГПa
Алмаз100
КНБ88
SiC33
Al2O320
Si12